說明：
在許多酸性藥液後的水槽，常有殘酸殘留、Particle 去除不良、靜電破壞、不能用 QDR 功能如 BOE 後的 OF 槽（易造成 Watermark 問題）等，可考慮使用 CO2 水，以達更佳的洗淨及減少靜電之破壞。早期在 Wet Bench 去靜電的方式

特點: 防止靜電破壞及中和酸性藥液。
應用: 半導體前段製程及後段晶圓切割等製程。

以金屬外套包覆 DIW Inlet 管材（PFA），但效果有限，無法有效降低靜電對晶圓的傷害。

製作流程：

規格：